X-射線熒光光譜：作為一種比較分析技術，在較嚴格的條件下用一束X射線或低能光線照射樣品材料，致使樣品發(fā)射特征X射線。這些特征X射線的能量對應于各特定元素，樣品中元素的濃度直接決定射線的強度。該發(fā)射特征X射線的過程稱為X射線熒光或XRF.
X射線熒光光譜儀有兩種基本類型：波長色散型（WD-XRF）和能量色散型（ED-XRF)
一臺典型的XRF儀器的核心硬件包括X射線源與X射線探測器及多通道數(shù)字脈沖處理器。其中X射線源是提供激發(fā)樣品特征X射線的光源， X射線探測器檢測X射線光子的裝置，并能把它的能量按照光子的振幅比例來轉化為具有電子能量的脈沖，而多通道數(shù)字脈沖處理器則能夠將探測器轉化來的脈沖信號進行處理，從而得到X射線的能譜圖。
日立X射線熒光光譜儀EA1000AIII通過將可選項的精度管理型軟件進一步升級,并使之成為標準配備，實現(xiàn)了低價格化。與以往儀器相比，環(huán)境管制物質(zhì)的測量時間大幅縮短，材料辨識功能、分析線切換功能、清晰易懂的操作面板……易用性大大提高，分析速度更快，操作更簡單。
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